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densoku各種膜厚儀的原理和特點(diǎn)
當(dāng)用 X 射線照射物質(zhì)時(shí)，會(huì)發(fā)射出具有該物質(zhì)所含元素所*的光譜（波長(zhǎng)、能量）的 X 射線。這些二次 X 射線稱(chēng)為熒光 X 射線。
一種物質(zhì)發(fā)出的熒光 X 射線的量取決于該物質(zhì)中所含每種元素的量。
因此，在基底（基板）上涂有薄膜（鍍層）的樣品的情況下，從薄膜發(fā)射的熒光 X 射線量取決于薄膜的厚度。，可以確定薄膜的厚度準(zhǔn)確。
熒光 X 射線根據(jù)金屬的原子序數(shù)而具有不同的能量，利用這種電位差和強(qiáng)度，不僅可以測(cè)量單層膜，還可以測(cè)量雙層、三層膜的膜厚, 和合金薄膜..
通過(guò)縮小X射線的照射范圍，可以測(cè)量微小范圍的膜厚，適用于小型零件的測(cè)量。
鐵鍍鋅膜厚測(cè)量。示例：應(yīng)用于螺栓、螺母等的鍍鋅膜厚度控制。
印刷電路板上Cr/Ni/Cu、Au/Ni/Cu等多層鍍層的厚度測(cè)量
Zn-Ni等合金鍍層厚度測(cè)量
其他鍍膜厚度測(cè)量
鍍膜厚度是通過(guò)陽(yáng)極電解法溶解鍍膜來(lái)測(cè)量的，這是一種應(yīng)用規(guī)則測(cè)量鍍層厚度的方法 （陽(yáng)極電解電路見(jiàn)圖1）在鍍膜結(jié)束時(shí)，由于測(cè)量部分被恒定電流溶解，膜金屬消失，當(dāng)基體金屬出現(xiàn)時(shí)，陽(yáng)極電壓發(fā)生變化，并且檢測(cè)到此電壓變化以結(jié)束測(cè)量。（見(jiàn)圖二）
雖然是破壞型測(cè)量，但可以通過(guò)簡(jiǎn)單的測(cè)量來(lái)測(cè)量，也可以測(cè)量多層電鍍。
可測(cè)量雙鎳、三鎳各層膜厚及電位差
可以分別測(cè)量銅鍍錫時(shí)形成的純錫層和合金層的厚度。
可以測(cè)量 X 射線無(wú)法測(cè)量的厚多層鍍層（最大 300 μm）
通過(guò)使用線測(cè)試儀，可以測(cè)量細(xì)線的電鍍膜厚度。
鍍錫線（鍍錫銅線）純錫層厚度測(cè)量
汽車(chē)外飾件用Cr/Ni/Cu三層鍍層測(cè)量，鍍Ni用
雙鎳/三鎳電位差測(cè)量
與非破壞性薄膜測(cè)厚儀的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行交叉檢查
當(dāng)帶有高頻電流的探頭（探頭線圈）靠近金屬時(shí)，金屬表面會(huì)產(chǎn)生渦流。
這種渦流受高頻磁場(chǎng)的強(qiáng)度和頻率、金屬的導(dǎo)電性、厚度、形狀等的影響，穿透深度和大小不同。
然后渦流流動(dòng)以抵消探頭的高頻磁場(chǎng)，改變探頭的高頻電阻值。
這種高頻電阻變化的幅度一般與膜厚值不成正比。
通過(guò)參考內(nèi)置或用戶(hù)創(chuàng)建的特性曲線（校準(zhǔn)曲線）轉(zhuǎn)換為薄膜厚度值。
可以測(cè)量幾乎所有金屬上的薄膜（鋁、鋅、鉻等的氧化膜，鐵上的電鍍和油漆）
或幾乎所有非金屬上的金屬薄膜（塑料上的電鍍等）。
非常適合 100% 檢查，因?yàn)樗梢栽诙虝r(shí)間內(nèi)（1 秒內(nèi)）進(jìn)行非破壞性測(cè)量。
也可以測(cè)量曲面、球面、管道內(nèi)表面（φ12.7 mm 或更大）。
樹(shù)脂上鋁薄膜的測(cè)量。示例：應(yīng)用于汽車(chē)前照燈反射器的鋁沉積（從 100 nm 開(kāi)始）的質(zhì)量控制。
鋁材上氧化鋁膜厚度的測(cè)量
鐵鍍鋅膜厚測(cè)量（與熒光X射線膜厚儀聯(lián)用）
陶瓷鍍鎳層厚度測(cè)量
恒定電流通過(guò)被測(cè)導(dǎo)電物體的規(guī)定截面，在該截面內(nèi)一定距離處產(chǎn)生的電壓被換算成膜厚。
將四個(gè)引腳（探針）放在印刷電路板上的銅箔上。銅箔的厚度可以通過(guò)向兩個(gè)外部探針施加電流并測(cè)量?jī)蓚€(gè)內(nèi)部探針之間產(chǎn)生的電位差來(lái)獲得。
印刷電路板用銅箔測(cè)厚時(shí)，如果銅箔為單層，可用渦流測(cè)厚儀測(cè)厚，無(wú)法測(cè)量。
電阻法僅在表層施加電流并測(cè)量銅箔的厚度，因此可以不受下層影響而精確測(cè)量。
測(cè)量多層板表面銅箔厚度
非金屬上金屬薄膜的厚度測(cè)量
