在半導體制造中，噴涂工藝的精度和可靠性直接影響芯片的質(zhì)量與性能。無論是光刻膠的均勻涂覆、清洗液的精細霧化，還是功能性材料的精準沉積，都需要噴嘴具備高的穩(wěn)定性、耐腐蝕性和抗堵塞能力。Atomax二流體噴嘴憑借其技術(shù)特性，成為半導體行業(yè)高精度噴涂的理想選擇，為先進制程提供可靠保障。
1. 超高精度霧化，滿足半導體微米級工藝需求
Atomax噴嘴采用先進的二流體霧化技術(shù)，能夠?qū)⒁后w破碎成幾微米的超細液滴，實現(xiàn)納米級均勻分布。例如，在光刻膠噴涂中，Atomax噴嘴可替代傳統(tǒng)旋涂工藝，以極低的流量精準控制膠液覆蓋，避免材料浪費，同時確保晶圓表面形成無缺陷的均勻薄膜。其霧化粒徑可精確調(diào)控，適應不同工藝的需求，為光刻、蝕刻等關(guān)鍵制程提供穩(wěn)定支持。
2. 高純度耐腐蝕材料，確保長期穩(wěn)定運行
半導體制造涉及多種強酸、強堿及有機溶劑，普通噴嘴易受腐蝕，導致雜質(zhì)析出，影響芯片良率。Atomax噴嘴采用PEEK樹脂、SUS316L不銹鋼等高性能材料，具有強的耐化學腐蝕性，可長期耐受各類清洗劑、蝕刻液及功能性涂料，避免污染風險。此外，其材料具備優(yōu)異的耐高溫性能，適用于CVD、PVD等高溫沉積工藝，確保在嚴苛環(huán)境下仍能穩(wěn)定工作。
3. 抗堵塞設計，保障連續(xù)生產(chǎn)
傳統(tǒng)噴嘴在噴涂高粘度液體或漿料時容易堵塞，導致工藝中斷，增加維護成本。Atomax噴嘴采用外置混合結(jié)構(gòu)+大孔徑流路設計，液體通道為直線型，無內(nèi)部滯留區(qū)域，堵塞風險極低。其噴霧孔徑比普通噴嘴大10~200倍，可輕松處理高粘度光刻膠、漿料及納米顆粒懸浮液，大幅減少停機清洗頻率，提升生產(chǎn)效率。
4. 靈活可控，適配多樣化半導體工藝
精準流量調(diào)節(jié)：支持超低流量霧化(可低至毫升/分鐘級別)，滿足半導體制造中對微量噴涂的嚴苛要求。
模塊化設計：體積小巧，易于集成到現(xiàn)有設備，適用于空間受限的晶圓清洗、噴涂系統(tǒng)。
定制化服務：可根據(jù)工藝需求調(diào)整噴嘴孔徑、噴霧角度及流量參數(shù)，適配不同制程的噴涂需求。
5. 實際應用場景
光刻膠噴涂：替代旋涂，減少材料浪費，提升均勻性。
晶圓清洗：超細霧化清洗液，實現(xiàn)高效去污，避免損傷微結(jié)構(gòu)。
功能性涂層沉積：精準控制薄膜厚度，提升CVD/PVD工藝質(zhì)量。
結(jié)語
Atomax二流體噴嘴以高精度霧化、強耐腐蝕、抗堵塞、長壽命等核心優(yōu)勢，成為半導體行業(yè)噴涂工藝的可靠伙伴。無論是提升良率、降低耗材成本，還是優(yōu)化制程穩(wěn)定性，Atomax都能提供解決方案。選擇Atomax，讓您的半導體制造工藝更精準、更高效！
