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日本kurabo液體成分濃度計(jì)ChemicAlyzer

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更新日期:2024-03-22

簡(jiǎn)要描述:

日本kurabo液體成分濃度計(jì)ChemicAlyzer
ChemicAlyzer 是一種液體成分濃度計(jì),采用采用光吸收原理的在線設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)連續(xù)測(cè)量。

日本kurabo液體成分濃度計(jì)ChemicAlyzer

日本kurabo液體成分濃度計(jì)ChemicAlyzer

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ChemicAlyzer 是一種液體成分濃度計(jì),采用采用光吸收原理的在線設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)連續(xù)測(cè)量。自 1990 年開(kāi)始作為紅外液體成分濃度計(jì)的先驅(qū)開(kāi)展業(yè)務(wù)以來(lái),我們利用我們豐富的專業(yè)知識(shí)和技術(shù),通過(guò)響應(yīng)測(cè)量來(lái)應(yīng)對(duì)質(zhì)量和化學(xué)濃度方面不斷發(fā)展的半導(dǎo)體器件制造過(guò)程需求,支持的管理。
我們將通過(guò)靈活應(yīng)對(duì)工藝和特殊化學(xué)品,以及通過(guò)高精度化學(xué)濃度測(cè)量“提前應(yīng)對(duì)測(cè)量需求",繼續(xù)為優(yōu)化制造工藝做出貢獻(xiàn)。

  • 晶圓制造工藝

  • 半導(dǎo)體制造工藝


    • 液晶面板制造工藝

    • 基板制造工藝

    • 晶振制造工藝

  • ?抗蝕劑剝離劑的濃度控制

  • ?再生化學(xué)品的濃度管理

  • ?后處理化學(xué)品的濃度控制

  • ?酸堿清洗液的濃度控制

  • ?氧化膜/氮化膜蝕刻液的濃度控制

  • ?其他特殊化學(xué)品的濃度管理

此外,它還廣泛應(yīng)用于電池材料制造過(guò)程和清酒和醋的發(fā)酵測(cè)量等行業(yè)。
因其高性能測(cè)量技術(shù)而受到高度評(píng)價(jià),已在日本、東亞和美國(guó)銷售超過(guò) 3,000 臺(tái)!

日本kurabo液體成分濃度計(jì)ChemicAlyzer

基本規(guī)格

測(cè)量方法近紅外透射光譜
最短測(cè)量時(shí)間2 秒
測(cè)量值輸出DC4-20mA
輸入信號(hào)晶體管電流驅(qū)動(dòng)輸入(測(cè)量、校準(zhǔn)、預(yù)熱結(jié)束等)
輸出信號(hào)集電極開(kāi)路輸出(READY、BUSY、設(shè)備錯(cuò)誤、測(cè)量、成功、上下限報(bào)警等)
接液部分材料石英池規(guī)格:PFA、PTFE、石英(池)、全氟(O 型圈)
藍(lán)寶石 池規(guī)格:PFA、PTFE、藍(lán)寶石(池)、Kalrez(O 型圈)
最大工作壓力0.2MPa
管道直徑IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3(mm) 含1m管

化學(xué)品清單

主要用途成分1成分 2成分 3評(píng)論通用名稱推薦高精度支持所需的特殊波長(zhǎng)
半導(dǎo)體NH3_ _H2O2 _ _ _

APM, SC1

高頻





高頻

DHF
H2SO4 _ _ _H2O2 _ _ _

SPM

高頻H2O2 _ _ _

FPM

高頻H2O2 _ _ _
FPM
高頻鹽酸


高頻H2SiF6 _ _ _



人機(jī)交互H2O2 _ _ _

HPM,SC2
氫氧化鉀H2O2 _ _ _




氫氧化鈉H2O2 _ _ _




H3PO4 _ _ _





高頻NH4F _ _



高頻HNO3 _



高頻H2O2 _ _ _CH3COOH _ _


液晶TMAH

開(kāi)發(fā)商


H3PO4 _ _ _HNO3 _CH3COOH _ _蝕刻

H2SO4 _ _ _H2O2 _ _ _蝕刻
_ _溶劑抗剝離
其他國(guó)際音標(biāo)





_ _

有機(jī)溶劑中的微量水

CH3COOH _ _C2H5OH _ _ _ _
尖酸刻薄

C2H5OH _ _ _ _葡萄糖
清酒




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