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日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列 氨法脫硫設(shè)備

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更新日期:2024-03-23

簡(jiǎn)要描述:

日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列
通過(guò)在放電后向等離子體中注入前驅(qū)體,ULCoat系列可以在處理過(guò)的表面上沉積薄膜。
ULCoat是一款可將前驅(qū)體汽化并注入等離子體中,后由噴嘴完成薄膜沉積的系統(tǒng)。ULCoat系列需要與ULS OMEGA系列配合使用。

日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列 氨法脫硫設(shè)備
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日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列

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通過(guò)在放電后向等離子體中注入前驅(qū)體,ULCoat系列可以在處理過(guò)的表面上沉積薄膜。

ULCoat是一款可將前驅(qū)體汽化并注入等離子體中,后由噴嘴完成薄膜沉積的系統(tǒng)。ULCoat系列需要與ULS OMEGA系列配合使用。
ULCoat系列的標(biāo)準(zhǔn)版本是為了允許使用有機(jī)金屬作為前驅(qū)體進(jìn)行氧化硅(SiOx)的沉積而設(shè)計(jì)的。當(dāng)然,我們也可以根據(jù)要求開(kāi)發(fā)其他薄膜成分。
您可以與我們的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室合作,在研發(fā)合同的框架下,定制您的專(zhuān)屬解決方案。

ULCoat系列技術(shù)特點(diǎn)

  • – 與ULS OMEGA系列搭配使用

  • – 薄膜沉積

  • – 沉積厚度范圍從50至1000納米

  • – 沉積薄膜厚度均勻(+/- 2%)

  • – 中高處理速度可達(dá)200nm.cm2/s

  • – 專(zhuān)為氧化硅(SiOx)的沉積進(jìn)行優(yōu)化

噴嘴

在注入等離子體之前,液態(tài)前驅(qū)體的流速是可以控制的。該模塊由幾個(gè)部分組成。

  • – 前驅(qū)體儲(chǔ)存罐

  • – 前驅(qū)體流量控制單元

  • – 氣體流量控制單元

  • – 加熱器模塊(可選)

直觀的數(shù)字觸控屏

  • – 內(nèi)置觸摸屏(OEM版本除外)

  • – 直觀的控制方式

  • – 多語(yǔ)言界面

  • – 故障檢測(cè)和診斷

  • – 實(shí)時(shí)顯示指令

適用氣體

  • – 空氣

  • – 氮?dú)?/span>

  • – 其他混合氣體

日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列

ULCoat系列的優(yōu)勢(shì)

  • – 工作溫度低

  • – 沉積薄膜厚度均勻(+/- 2%)

  • – 可以研究其他類(lèi)型的沉積

  • – OpenFlow版本可用于開(kāi)發(fā)新的沉積工藝



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